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文献J-GLOBAL ID:200902212504337218整理番号:07A0731378

The choice of mask in consideration of polarization effects at high NA system

高NAシステムでの偏光効果の考察におけるマスク選択

著者:KIM Sung‐Hyuck(Samsung Electronics Co., Ltd., Gyenggi‐Do, KOR)、KIM Soon‐Ho(Samsung Electronics Co., Ltd., Gyenggi‐Do, KOR)、YU Sang‐Yong(Samsung Electronics Co., Ltd., Gyenggi‐Do, KOR)・・・
資料名:Proc SPIE 巻:6520 号:Pt.3 ページ:65204R.1-65204R.8
発行年:2007年
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