安定なサブミクロンメートル幅の導電パターンの容易な光構築

KEUM C-D; FUKUDA T; MATSUDA H; TAMADA K

文献

J-GLOBAL ID：200902212509677009 整理番号：04A0380987

安定なサブミクロンメートル幅の導電パターンの容易な光構築

Facile Photofabrication of Stable, Submicrometer-Wide, Electrically Conductive Patterns

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資料名：
巻： 16 号： 8 ページ： 696-699 発行年： 2004年04月19日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：ドイツ (DEU) 言語：英語 (EN)

フラン官能化ガラス基板面上の銀ナノ粒子/光反応性高分子(ポリ...

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固体デバイス製造技術一般 , 原子・分子のクラスタ

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