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J-GLOBAL ID：200902212511439573   整理番号：09A0464445

交互左巻材料と右巻材料からなるフォトニック結晶における近接場結像に対するパラメータ変調の影響

Effects of Parameter Modulation on Near-Field Imaging in Photonic Crystal Consisting of Alternately Left-Handed Material and Right-Handed Material

著者 (4件)： Wang Qiong (Advanced Photonics Center, School of Electronic Sci. and Engineering, Southeast Univ., Nanjing) ,  Yan Chang-Chun (Advanced Photonics Center, School of Electronic Sci. and Engineering, Southeast Univ., Nanjing) ,  Zhang Ling-Ling (Advanced Photonics Center, School of Electronic Sci. and Engineering, Southeast Univ., Nanjing) ,  Cui Yi-Ping (Advanced Photonics Center, School of Electronic Sci. and Engineering, Southeast Univ., Nanjing)
資料名： Chinese Physics Letters  (Chinese Physics Letters)
巻： 25  号： 12  ページ： 4417-4420  発行年： 2008年 
JST資料番号： W1191A  ISSN： 0256-307X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： トランスファーマトリックス法により,交互左巻材料と右巻材料からなるフォトニック結晶における近接場結像の品質に対するパラメータ変調の影響を調べた。回復率と位相シフトの解析に基づいて,結像品質が層厚みの小変化に影響されないことを示した。さらに,左巻材料の材料パラメータを変調することにより,TE波の場合の実部と虚部の両方において系が誘電率よりも浸透率に対して敏感であることを示した。TM波の場合には,逆であった。これらの結果は,特に左巻材料によるフォトニック結晶の作製にとり有用である。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *フォトニックバンドギャップ ,  近接場 ,  結像 ,  インタリーブ ,  層厚 ,  位相シフト ,  位相回復 ,  伝達マトリックス法 ,  *フォトニック結晶

分類 (2件)： 結晶学一般  (BK05010Z) ,  光の像形成  (BD03050I)

タイトルに関連する用語 (6件)： 巻 ,  フォトニック結晶 ,  近接場 ,  結像 ,  パラメータ ,  変調