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J-GLOBAL ID：200902225274969311   整理番号：09A0009046

Nd₂NiO_4+δエピタキシャル薄膜の深さ分解XAFS測定

Depth-resolved XAFS measurements of Nd₂NiO_4+δ epitaxial thin films

著者 (12件)： 雨澤浩史 (東北大) ,  折笠有基 (京大) ,  伊奈稔哲 (京大) ,  福塚友和 (京大) ,  山田淳夫 (東京工大) ,  高垣昌史 (JASRI) ,  宇留賀朋哉 (JASRI) ,  谷田肇 (JASRI) ,  豊川秀訓 (JASRI) ,  寺田靖子 (JASRI) ,  川田達也 (東北大) ,  内本喜晴 (京大)
資料名： 固体イオニクス討論会講演要旨集  (Extended Abstracts. Symposium on Solid State Ionics in Japan)
巻： 34th  ページ： 101-102  発行年： 2008年12月03日 
JST資料番号： L1398A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 蒸着膜 ,  *酸化ネオジム ,  *酸化ニッケル ,  電子構造 ,  XAFS ,  空間電荷 ,  その場観察 ,  深さ分析 ,  非化学量論 ,  セラミック膜 ,  *ヘテロエピタクシー ,  レーザ蒸着 ,  イオン伝導
準シソーラス用語： 局所構造

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  不純物・欠陥の電子構造  (BM02100I) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K)

タイトルに関連する用語 (4件)： エピタキシャル ,  薄膜 ,  分解 ,  XAFS