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J-GLOBAL ID：200902235023072172   整理番号：08A0425757

HfO₂/SiO₂/Si構造で観測されるHf光電子スペクトルのブロードニング

著者 (8件)： 阿部泰宏 (武蔵工大) ,  宮田典幸 (武蔵工大) ,  宮田典幸 (産業技術総合研) ,  池永英司 (高輝度光科学研究セ) ,  鈴木治彦 (武蔵工大) ,  北村幸司 (武蔵工大) ,  五十嵐智 (武蔵工大) ,  野平博司 (武蔵工大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 55th  号： 2  ページ： 842  発行年： 2008年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 酸化ハフニウム ,  酸化ケイ素 ,  ケイ素 ,  *ハフニウム ,  *光電子スペクトル ,  *拡幅 ,  光電子分光法 ,  MOSFET ,  誘電材料 ,  絶縁膜 ,  化学結合 ,  X線光電子分光法 ,  光電子放出 ,  超高真空 ,  電子ビーム蒸着
準シソーラス用語： high-k材料 ,  XPS

分類 (1件)： 一般及び無機化合物の電子分光スペクトル(分子)  (BH06091Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： HfO2 ,  SiO2 ,  Si ,  観測 ,  HF ,  光電子スペクトル