超高真空マグネトロンスパッタリングによるCu<sub>2</sub>O,CuO薄膜のエピタキシャル成長制御(V)

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J-GLOBAL ID：200902235305313717 整理番号：06A0266930

超高真空マグネトロンスパッタリングによるCu₂O,CuO薄膜のエピタキシャル成長制御(V)

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巻： 53rd 号： 2 ページ： 694 発行年： 2006年03月22日
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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酸化物薄膜

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