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J-GLOBAL ID：200902237143325891   整理番号：06A0670920

正・負高電圧パルス型プラズマ利用イオン注入法によるSi含有DLC膜の作製と評価(II)-正パルスの波高値と耐熱性,摩擦摩耗特性-

Si-DLC Films using a Plasma Based Ion Implantation Technique with Positive-Negative High Voltage Pulses (II)-Effect of Positive Pulse Heights for Thermal Resistance, Friction and Wear-

著者 (4件)： 池山雅美 (産業技術総合研 サステナブルマテリアル研究部門) ,  CHOI Junho (産業技術総合研 サステナブルマテリアル研究部門) ,  中尾節男 (産業技術総合研 サステナブルマテリアル研究部門) ,  宮川草児 (産業技術総合研 サステナブルマテリアル研究部門)
資料名： 粉体および粉末冶金  (Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy)
巻： 53  号： 8  ページ： 641-646  発行年： 2006年08月15日 
JST資料番号： F0691A  ISSN： 0532-8799  CODEN： FOFUA2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 前報(I)で正・負高電圧パルス型プラズマ利用イオン注入法を用...

シソーラス用語： *DLC膜 ,...

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分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

引用文献 (8件)：

• 1) M. Ikeyama, J. Choi, S. Nakao and S. Miyagawa: "Si-DLC Films Using a Plasma Based Ion Implantation Technique with Positive-Negative High Voltage Pulses (I) - Effect of Si Content for Thermal Resistance, Friction and Wear -", J. Jpn. Soc. Powder Powder Metallurgy, 53 (2006) 635-640.
• 2) S. Miyagawa, S. Nakao, J. Choi, M. Ikeyama and Y. Miyagawa: "Effects of target bias voltage on the electrical conductivity of DLC films deposited by PBII/D with a bipolar pulse", Nucl. Instrum. Meth. Phy. Res., 242 (2006) 346-348.
• 3) W-J. Wu and M-H. Hon: Thin Solid Film, "The Structure and Residual Stress in Si Containing Diamond-Like Carbon Coating", 307 (1997) 1-5.
• 4) J. Robertson: "Diamond-Like Amorphous Carbon", Mater. Sci. Eng., R37 (2002) 129-281.
• 5) M. Ikeyama, S. Nakao, Y. Miyagawa and S. Miyagawa: "Effects of Si Content in DLC Films on Their Friction and Wear Properties", Surf. Coat. Tech., 191 (2005) 38-42.

タイトルに関連する用語 (11件)： 高電圧パルス ,  プラズマ ,  イオン注入法 ,  Si ,  DLC膜 ,  作製 ,  評価 ,  パルス ,  波 ,  耐熱性 ,  摩擦摩耗特性