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J-GLOBAL ID：200902243206844339   整理番号：08A0943239

Si(111)7×7表面上に室温蒸着した4,4’’-diamino-p-terphenylの熱処理効果

著者 (7件)： 西村高志 (北陸先端科学技術大学院大) ,  板橋敦 (北陸先端科学技術大学院大) ,  笹原亮 (北陸先端科学技術大学院大) ,  村田英幸 (北陸先端科学技術大学院大) ,  新井豊子 (金大 大学院) ,  新井豊子 (JST-SORST) ,  富取正彦 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 2  ページ： 582  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *表面構造 ,  *熱処理 ,  有機材料 ,  *吸着 ,  積層欠陥 ,  *走査型トンネル顕微鏡 ,  X線光電子分光法 ,  真空蒸着 ,  基板 ,  *芳香族アミン
準シソーラス用語： 有機薄膜

分類 (2件)： 固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

物質索引 (1件)： 1,1′:4′,1′′-テルベンゼン-4,4′′-ジアミン

タイトルに関連する用語 (4件)： Si ,  室温 ,  蒸着 ,  熱処理