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J-GLOBAL ID：200902267333979150   整理番号：09A0233954

拡散係数の異なる構造が共存する結晶表面の形態不安定性-吸着原子の流れによる効果-

著者 (2件)： 井川健太 (金沢大 自然) ,  佐藤正英 (金沢大 総合メディア基盤セ)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 64  号： 1 第4分冊  ページ： 900  発行年： 2009年03月03日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *表面構造 ,  温度依存性 ,  *構造相転移 ,  *転移温度 ,  *拡散係数 ,  形態 ,  不安定性 ,  *微斜面 ,  *ステップ ,  溝 ,  蛇行
準シソーラス用語： *共存 ,  *吸着原子 ,  ドリフト移動

分類 (3件)： 半導体の表面構造  (BK15030A) ,  固相転移  (BL04020G) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (7件)： 拡散係数 ,  共存 ,  結晶表面 ,  形態 ,  不安定性 ,  吸着原子 ,  流れ