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J-GLOBAL ID：200902295173580438   整理番号：08A0943192

Fe/Si多層膜界面のSi厚の違いによる電子状態の変化

著者 (3件)： 後藤智宏 (東北大 多元物質科研) ,  神野貴義 (東北大 多元物質科研) ,  江島丈雄 (東北大 多元物質科研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 2  ページ： 567  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *鉄 ,  *ケイ素 ,  *磁性薄膜 ,  *多層膜 ,  *界面 ,  *電子状態 ,  膜厚 ,  定在波 ,  *光電子スペクトル ,  価電子バンド ,  深さ分析 ,  磁性
準シソーラス用語： 価電子帯 ,  交換結合

分類 (3件)： 表面の電子構造  (BM02080J) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (6件)： Fe ,  Si ,  多層膜 ,  界面 ,  厚 ,  電子状態