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J-GLOBAL ID：200902299390420690   整理番号：09A0928528

酸素分子巨大クラスターイオンビームの遷移金属表面化学プロセスへの応用

著者 (1件)： 盛谷浩右 (兵庫県大 大学院工学研究科)
資料名： ひょうご科学技術協会学術研究支援事業研究成果報告書
巻： 2008  ページ： 35(1)-38  発行年： 2009年09月 
JST資料番号： L5775A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次世代のナノプロセス技術および表面反応研究を考え,気体分子の巨大クラスターイオンビームを遷移金属表面の化学プロセスに応用することを目指した。酸素分子ビームによって誘起される表面非平衡プロセスを利用して,新しいナノ構造や表面物質相の自己組織的な構築が可能であることを実験的に示した。またこのようなビーム有機表面反応をクラスターイオンビームによって制御するのに,高分解能でクラスターサイズを選別しクラスターの1原子あたりのエゲルギーが制御できる飛行時間型クラスターサイズ選別器を開発した。さらに,同器のビームを用いて1原子あたりエネルギーを制御することで,表面の化学結合の解離反応を制御できることを,ポリスチレン薄膜で示した。

シソーラス用語： *イオンビーム ,  酸素 ,  *界面化学 ,  *化学プロセス ,  ナノテクノロジー ,  遷移金属 ,  高分子薄膜
準シソーラス用語： *クラスターイオンビーム ,  ポリスチレン薄膜 ,  酸素分子

分類 (2件)： 電子ビーム,イオンビーム  (BD02030F) ,  金属の表面構造  (BK15020P)

引用文献 (4件)：

• “Reconstruction of Cu(111) induced by a hyperthermal oxygen molecular beam” K. Moritani, et. a1., J. Phys. Chem. C, 112, 8662-8667(2008)
• “Preferentia1 sputtering of DNA mo1ecules on a graphite surface by Ar c1uster ion beam” K. Moritani, et. al., J. Phys. Chem. C, 112, 11357-11362(2008)
• “Extreme1y low-energy projectiles for SIMS using size-selected gas cluster ion,” K. Moritani, et. al., Appl. Surf. Sci, 255,948-950,(2008)
• “Site-specifi Fragmentation of Po1ystyrene using Ar Gas Cluster Ion Beam” K. Moritani, et. al., Appl. Phys. Express 2,046001,(2009)

タイトルに関連する用語 (6件)： 酸素分子 ,  クラスターイオンビーム ,  遷移金属 ,  表面化学 ,  プロセス ,  応用