成膜装置及び成膜方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089738
公開番号（公開出願番号）：特開2001-276702
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：

【要約】【課題】液状膜中への不純物の混入を抑止し、且つ液状膜の塗布量を局所的に制御する。【解決手段】レーザ発振器24と、円筒状の二つの巻き取り器21に巻かれ,レーザ照射によりガス化するガス発生膜20と、ガス発生膜20とレーザ発振器24との間に設けられ、レーザ光に対して透明な透明基板22と、発生したガスを薬液に対して効率よく噴射させるガス噴出ノズル23とから構成されている。ガス発生膜20がガス化すると、ガスは拡散するが、透明基板22により発生したガスを薬液方向に効率よく噴出させることができる。巻き取り器21を回転させることによって、ガス発生膜20を移動させることができる。

請求項（抜粋）：

被処理基板に対して液体を連続的に吐出する液体吐出ノズルと,この液体吐出ノズルの下方に配置された該ノズルから吐出された液体の軌道を変化させる液体軌道変化部と、吐出された液体を前記液体軌道変化部と挟むように配置され、該液体軌道変化部により軌道が変化された液体を回収する液体回収部と、前記液体吐出ノズルと前記被処理基板とを相対的に移動させる移動手段とを具備する成膜装置であって、前記液体軌道変化部は、レーザ発振器を具備することを特徴とする成膜装置。

IPC (6件)：

B05C 5/00 101 , B01J 19/08 , B05D 1/26 , G03F 7/16 501 , H01L 21/027 , H01L 21/31

FI (6件)：

B05C 5/00 101 , B01J 19/08 F , B05D 1/26 Z , G03F 7/16 501 , H01L 21/31 A , H01L 21/30 564 Z

Fターム (34件)：

2H025AA18 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025EA04 , 4D075AC08 , 4D075AC58 , 4D075AC84 , 4D075AC88 , 4D075BB23Y , 4D075CA48 , 4D075DA08 , 4D075DC22 , 4D075EA05 , 4F041AA06 , 4F041AB01 , 4F041BA54 , 4F041BA59 , 4G075AA24 , 4G075AA61 , 4G075BD03 , 4G075BD05 , 4G075BD13 , 4G075BD24 , 4G075CA36 , 4G075DA02 , 4G075DA08 , 4G075DA12 , 4G075EA02 , 5F045AB32 , 5F045AB39 , 5F045CB06 , 5F045EM10 , 5F046JA02 , 5F046JA20

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