特許

J-GLOBAL ID：200903012025330165

不飽和アルコール製造用触媒およびそれを用いた不飽和アルコール製造法

発明者： 佐藤 智司 ,  高橋 亮治
出願人/特許権者： 国立大学法人 千葉大学
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2007050775
公開番号（公開出願番号）：WO2007-083736
出願日： 2007年01月19日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：

不飽和アルコールの製造に適した触媒と、両末端ジオールから不飽和アルコールを副生成物の生成を抑制して、効率よく製造する方法を提供すること。希土類金属酸化物を触媒100重量部中に10重量部以上含有することを特徴とする触媒とする。また、酸化テルビウム、酸化イッテルビウムの少なくともいずれかの希土類金属酸化物を含有する触媒とする。更に希土類金属酸化物および担体物質に担持させた希土類金属酸化物を触媒に用いて不飽和アルコールを製造する方法とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

希土類金属酸化物を触媒100重量部中に10重量部以上含有することを特徴とする触媒。

IPC (4件)：

B01J 23/10 ,  C07C 33/03 ,  C07C 33/025 ,  C07C 29/60

FI (4件)：

B01J23/10 Z ,  C07C33/03 ,  C07C33/025 ,  C07C29/60

Fターム (21件)：

4G169AA02 ,  4G169AA03 ,  4G169BA05B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC44A ,  4G169BC44B ,  4G169CB21 ,  4G169CB63 ,  4G169EC02Y ,  4H006AA02 ,  4H006AC13 ,  4H006BA08 ,  4H006BA30 ,  4H006BA55 ,  4H006BC10 ,  4H006BC13 ,  4H006BC37 ,  4H039CA20 ,  4H039CA21 ,  4H039CG10

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 西独国特許公開第2515422号公報
  
• インド国特許出願公開第1987-CA996号公報
  
• 不飽和アルコール製造用触媒と不飽和アルコール製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-207049   出願人：チッソ株式会社
• 不飽和アルコール製造用触媒およびその触媒を用いた不飽和アルコールの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-051067   出願人：チッソ株式会社