特許
J-GLOBAL ID：200903017392133505

シリカ-チタニア複合膜とその製造方法及び複合構造体

発明者：
奥寺 浩樹

奥寺 浩樹 について

, 
野浪 亨

野浪 亨 について


出願人/特許権者：
独立行政法人産業技術総合研究所

独立行政法人産業技術総合研究所 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-075995
公開番号（公開出願番号）：特開2003-277056
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：
【要約】【課題】 シリカ-チタニア複合膜とその製造方法及び複合構造体を提供する。【解決手段】 チタンとは異種の金属を成分とする金属化合物膜を1層又は複数層有し、最表面にチタン酸化物膜を有する複合膜を製造する方法であって、(1)チタンアルコキシド溶液中に、チタンとは異種の金属を成分とする金属化合物膜を表面に1層又は複数層有する基体を浸漬する、(2)該チタンアルコキシドを加水分解することにより液中に直径1〜30nmの低密度チタン酸コロイドを生ぜしめる、(3)これらの基体への付着と脱水重縮合により液中で該基体の表面をチタン酸化物を以て被覆せしめる、ことを特徴とする複合膜の製造方法、該方法によって得られる光触媒作用を有する複合膜、及び複合構造体。
請求項（抜粋）：
チタンとは異種の金属を成分とする金属化合物膜を1層又は複数層有し、最表面にチタン酸化物膜を有する複合膜を製造する方法であって、(1)チタンアルコキシド溶液中に、チタンとは異種の金属を成分とする金属化合物膜を表面に1層又は複数層有する基体を浸漬する、(2)該チタンアルコキシドを加水分解することにより液中に直径1〜30nmの低密度チタン酸コロイドを生ぜしめる、(3)これらの基体への付着と脱水重縮合により液中で該基体の表面をチタン酸化物を以て被覆せしめる、ことを特徴とする複合膜の製造方法。
IPC (5件)：
C01G 23/00 ,  B01J 21/08 ,  B01J 35/02 ,  B32B 9/00 ,  C03C 17/34
FI (5件)：
C01G 23/00 Z ,  B01J 21/08 M ,  B01J 35/02 J ,  B32B 9/00 A ,  C03C 17/34 Z
Fターム (54件)：
4F100AA19A ,  4F100AA21B ,  4F100AA21E ,  4F100AB01A ,  4F100AB01C ,  4F100AB01D ,  4F100AB01E ,  4F100AB12A ,  4F100AB12C ,  4F100AB12D ,  4F100AB12E ,  4F100AG00 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA06 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10B ,  4F100BA10E ,  4F100BA13 ,  4F100EJ82 ,  4F100EJ822 ,  4F100EJ85 ,  4F100EJ851 ,  4F100EJ86 ,  4F100EJ861 ,  4F100GB07 ,  4F100GB90 ,  4F100JC00 ,  4F100JM02A ,  4F100JM02B ,  4F100JM02C ,  4F100JM02D ,  4F100JM02E ,  4G047CA01 ,  4G047CB06 ,  4G047CD02 ,  4G059AA01 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB07 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA11 ,  4G069BA02B ,  4G069BA04B ,  4G069BA14B ,  4G069BA48A ,  4G069EA08 ,  4G069EC22Y ,  4G069FB08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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