特許
J-GLOBAL ID:200903017410161430

真空プロセス用装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-202634
公開番号(公開出願番号):特開2008-025017
出願日: 2006年07月25日
公開日(公表日): 2008年02月07日
要約:
【課題】 レーザー出力の低下等の従来の不都合を解消してレーザー加熱を可能とする。【解決手段】 真空チャンバー内にて、基板を加熱しながら蒸着する真空プロセス用装置であって、前記チャンバーの一部に光透過性窓が形成されており、当該光透過性窓と前記基板を保持する保持部とを、チャンバー内の他の箇所と隔絶した直線状空間にて繋ぎ、前記光透過性窓の外側にレーザー発振装置を配置し、レーザー発振装置から、前記直線状空間を通って前記基板にレーザー光を照射して加熱する真空プロセス用装置とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
真空チャンバー内にて、基板を加熱しながら蒸着する真空プロセス用装置であって、前記チャンバーの一部に光透過性窓が形成されており、当該光透過性窓と前記基板を保持する保持部とを、チャンバー内の他の箇所と隔絶した直線状空間にて繋ぎ、前記光透過性窓の外側にレーザー発振装置を配置し、レーザー発振装置から、前記直線状空間を通って前記基板にレーザー光を照射して加熱することを特徴とする真空プロセス用装置。
IPC (1件):
C23C 16/48
FI (1件):
C23C16/48
Fターム (2件):
4K030FA10 ,  4K030KA37
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特許第3268443号公報
  • 成膜装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-195568   出願人:新明和工業株式会社
  • レーザ加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-258973   出願人:科学技術振興事業団

前のページに戻る