特許

J-GLOBAL ID：200903021277974595

真空加熱炉

発明者： 平 治 ,  飛世 正博
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-071402
公開番号（公開出願番号）：特開2001-255070
出願日： 2000年03月15日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：

【要約】【課題】 大重量の被処理体を一度に処理することが可能であるとともに、外部との気密性が非常に高い高性能な真空加熱処理を提供する。【解決手段】 内部を減圧するための減圧手段を具備する真空容器と、該真空容器中設置された回転軸が水平方向である被処理物を入れるための回転容器と、回転容器を軸回転させる駆動手段と、を具備し、回転容器は真空容器に対し軸部で固定されない構造で真空容器中に設置されていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

内部を減圧するための減圧手段を具備する真空容器と、該真空容器中設置された回転軸が水平方向である被処理物を入れるための回転容器と、回転容器を軸回転させる駆動手段と、を具備し、回転容器は真空容器に対し軸部で固定されない構造で真空容器中に設置されていることを特徴とする真空加熱炉。

IPC (5件)：

F27B 7/06 ,  F27B 7/14 ,  F27B 7/24 ,  F27B 7/26 ,  F27D 7/06

FI (6件)：

F27B 7/06 ,  F27B 7/14 ,  F27B 7/24 ,  F27B 7/26 ,  F27D 7/06 A ,  F27D 7/06 B

Fターム (22件)：

4K061AA07 ,  4K061BA00 ,  4K061CA16 ,  4K061CA21 ,  4K061DA05 ,  4K061EA07 ,  4K061FA12 ,  4K061FA14 ,  4K061GA02 ,  4K061GA03 ,  4K061GA04 ,  4K063AA05 ,  4K063AA16 ,  4K063BA01 ,  4K063BA15 ,  4K063CA03 ,  4K063DA13 ,  4K063DA19 ,  4K063DA22 ,  4K063DA32 ,  4K063DA33 ,  4K063DA34