特許

J-GLOBAL ID：200903028766172099

水素吸蔵合金の製造装置

発明者： 秋山 友宏 ,  八木 順一郎 ,  渡辺 正治
出願人/特許権者： 秋山 友宏 ,  耐圧硝子工業株式会社
代理人 (1件)： 須田 孝一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-225323
公開番号（公開出願番号）：特開2003-042666
出願日： 2001年07月26日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】 水素吸蔵合金の製造が極めて安定して行われるようにした新規の水素吸蔵合金製造装置の提供を図ったものである。【解決手段】 両端面を蓋板3、4に依って開閉自在にしてかつ気密に閉鎖して成る筒状を呈する容器1に対し、その周囲全体に亘って電熱ヒーター2を囲繞し、これにより内部温度及び圧力の制御を、段階的に変化させる条件下で一括的に制御するように構成した水素吸蔵合金の製造装置

請求項（抜粋）：

両端面を蓋板3、4に依って開閉自在にしてかつ気密に閉鎖して成る筒状を呈する容器1に対し、その周囲全体に亘って電熱ヒーター2を囲繞し、これにより内部温度及び圧力の制御を、段階的に変化させる条件下で一括的に制御するように構成した水素吸蔵合金の製造装置。

IPC (8件)：

F27B 17/00 ,  C22C 1/00 ,  F27B 5/04 ,  F27B 5/12 ,  F27B 5/13 ,  F27B 5/14 ,  F27B 5/16 ,  F27B 5/18

FI (9件)：

F27B 17/00 D ,  F27B 17/00 A ,  C22C 1/00 N ,  F27B 5/04 ,  F27B 5/12 ,  F27B 5/13 ,  F27B 5/14 ,  F27B 5/16 ,  F27B 5/18

Fターム (7件)：

4K061AA02 ,  4K061BA02 ,  4K061DA05 ,  4K061EA10 ,  4K061FA13 ,  4K061GA02 ,  4K061GA04