二元細孔シリカゲル担持パラジウムを用いた接触水素添加反応方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-043400
公開番号（公開出願番号）：特開2004-250387
出願日： 2003年02月20日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：

【課題】特定の孔径を有するマクロ細孔と特定の孔径を有するメソ細孔からなる二元細孔シリカゲルに担持されたパラジウムの存在下、水素化される部位を有する化合物に水素ガスを接触させることにより当該水素化される部位の接触水素添加反応を効率よく行う方法を提供することを課題とする。【解決手段】0.5〜25μmの孔径を有するマクロ細孔と5〜25nmの孔径を有するメソ細孔からなる二元細孔シリカゲルに担持されたパラジウムの存在下、水素化される部位を有する化合物に水素ガスを接触させることを特徴とする、当該水素化される部位の接触水素添加反応方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

0.5〜25μmの孔径を有するマクロ細孔と5〜25nmの孔径を有するメソ細孔からなる二元細孔シリカゲルに担持されたパラジウムの存在下、水素化される部位を有する化合物に水素ガスを接触させることを特徴とする、当該水素化される部位の接触水素添加反応方法。

IPC (4件)：

C07C5/03 , C07C13/18 , C07C45/62 , C07C47/02

FI (4件)：

C07C5/03 , C07C13/18 , C07C45/62 , C07C47/02

Fターム (9件)：

4H006AA02 , 4H006AC11 , 4H006BA25 , 4H006BA56 , 4H006BE20 , 4H006DA44 , 4H039CA19 , 4H039CB10 , 4H039CE40

引用特許：

審査官引用 (7件)

活性金属として元素の周期表の第VIII副族の少なくとも1つの金属を有する触媒の存在下でのアントラキノン化合物の水素添加
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-517908 出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
マクロ細孔含有触媒を用いる非置換またはアルキル置換芳香族化合物の水素添加方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-612239 出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
有機化合物を反応させる方法及び触媒
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-162836 出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト

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