特許

J-GLOBAL ID：200903059181720948

嵩高い立体保護基を有する新規リン化合物、新規ケイ素-リン二重結合含有化合物およびその製造方法

発明者： 玉尾 皓平 ,  松尾 司 ,  李 保林
出願人/特許権者： 独立行政法人理化学研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-143661
公開番号（公開出願番号）：特開2009-286760
出願日： 2008年05月30日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：

【課題】新規リン化合物、並びにπ-π*遷移を実現可能なケイ素-リン二重結合含有化合物の提供。【解決手段】例えば、下式により合成されるリン化合物、並びに下式(II)で表される有化合物。(Ar1はアリール基、A21、A22はリン化合物の有機残基を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表されるリン化合物。

IPC (3件)：

C07F 9/50 ,  C07F 9/52 ,  C07F 19/00

FI (3件)：

C07F9/50 ,  C07F9/52 ,  C07F19/00

Fターム (17件)：

4H048AA01 ,  4H048AB84 ,  4H048VA50 ,  4H048VB10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VQ08 ,  4H049VR22 ,  4H049VS13 ,  4H049VU36 ,  4H050AA01 ,  4H050AA02 ,  4H050AB84 ,  4H050WA15 ,  4H050WA19 ,  4H050WA29