特許
J-GLOBAL ID:200903073577912800

膜乳化用多孔質シリカ膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 喜多 俊文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-387390
公開番号(公開出願番号):特開2003-181262
出願日: 2001年12月20日
公開日(公表日): 2003年07月02日
要約:
【要約】【課題】本発明は、表面化学修飾基を多量に含み、膜乳化に適した細孔を有する多孔質シリカ膜を提供する。【解決手段】本発明は、SiO2を主成分とし、0.3〜50ミクロン、及び50ナノメートル以下の細孔を有する膜乳化用多孔質シリカ膜である。発明の多孔質シリカ膜は、相分離を利用したゾル-ゲル法によって調製することが好ましい。
請求項(抜粋):
SiO2を主成分とし、0.3〜50ミクロンと50ナノメートル以下の細孔を有する膜乳化用多孔質シリカ膜。
IPC (2件):
B01F 5/06 ,  C01B 33/159
FI (2件):
B01F 5/06 ,  C01B 33/159
Fターム (18件):
4G035AB40 ,  4G035AC26 ,  4G072AA28 ,  4G072AA41 ,  4G072BB02 ,  4G072BB15 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK01 ,  4G072KK17 ,  4G072LL17 ,  4G072MM01 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072QQ06 ,  4G072QQ07 ,  4G072QQ09 ,  4G072TT08
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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