特許
J-GLOBAL ID:200903073617797901

超電導体の着磁方法及び超電導磁石装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 祥泰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-249147
公開番号(公開出願番号):特開平10-074622
出願日: 1996年08月30日
公開日(公表日): 1998年03月17日
要約:
【要約】【課題】 捕捉可能磁場特性に優れた超電導体に,コンパクトな装置で高い磁場を捕捉させることができる,超電導体の着磁方法及び超電導磁石装置を提供すること。【解決手段】 超電導遷移温度TC 以下の温度に冷却した超電導体にパルス磁場を印加することにより,上記超電導体に着磁する方法において,上記パルス磁場の印加は,上記超電導体の温度を下げながら複数回繰り返して行う。
請求項(抜粋):
超電導遷移温度TC 以下の温度に冷却した超電導体にパルス磁場を印加することにより,上記超電導体に着磁する方法において,上記パルス磁場の印加は,上記超電導体の温度を下げながら複数回繰り返して行うことを特徴とする超電導体の着磁方法。
IPC (2件):
H01F 13/00 ZAA ,  H01F 6/00 ZAA
FI (2件):
H01F 13/00 ZAA A ,  H01F 7/22 ZAA A
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 超電導モーター
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-253802   出願人:株式会社イムラ材料開発研究所
  • 酸化物超電導複合体及びその作製方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-065596   出願人:財団法人国際超電導産業技術研究センター, 財団法人鉄道総合技術研究所
  • クライオスタット
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-257864   出願人:株式会社日立製作所

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