特許
J-GLOBAL ID：200903088843177026

分子吸着材料、該分子吸着材料の製造方法および分子制御方法

発明者：
上野 祐子

上野 祐子 について

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味戸 克裕

味戸 克裕 について

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竹ノ内 弘和

竹ノ内 弘和 について

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富田 勲

富田 勲 について


出願人/特許権者：
日本電信電話株式会社

日本電信電話株式会社 について


代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-129446
公開番号（公開出願番号）：特開2006-305656
出願日： 2005年04月27日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：
【課題】 種々の分子の立体配座や、複数の分子の配列状態を効果的に制御することができる分子制御法と、その際に使用される分子吸着材料および該分子吸着材料の製造方法を提供する。【解決手段】 分子吸着材料に分子を吸着させた後、分子に周波数0.1〜15THzの電磁波を照射し、分子の立体配座および/または分子の配列状態を制御する。分子吸着材料としては、孔径1nm以上100nm以下のメソ孔と該メソ孔の孔壁に形成された孔径0.2nm以上1nm未満のマイクロ孔とからなる細孔が、周期的に形成されたものが好適である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
分子に周波数0.1〜15THzの電磁波を照射して、前記分子の立体配座および/または前記分子の配列状態を制御する際に、前記分子を吸着するための分子吸着材料であって、 孔径1nm以上100nm以下のメソ孔と該メソ孔の孔壁に形成された孔径0.2nm以上1nm未満のマイクロ孔とからなる細孔が、周期的に形成されていることを特徴とする分子吸着材料。
IPC (3件)：
B82B 3/00 ,  B82B 1/00 ,  C01B 37/00
FI (3件)：
B82B3/00 ,  B82B1/00 ,  C01B37/00
Fターム (13件)：
4G073BA20 ,  4G073BA21 ,  4G073BA22 ,  4G073BA25 ,  4G073BA26 ,  4G073BA30 ,  4G073BA57 ,  4G073BA63 ,  4G073BA65 ,  4G073CZ53 ,  4G073FA15 ,  4G073FB01 ,  4G073UB60
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)
  • 基板の処理方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-065760   出願人：大日本印刷株式会社
引用文献：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (1件)

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