任意の表面特性及び表面形状を有する基体表面へのシリカ薄膜の製造方法及び複合構造体

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-076093
公開番号（公開出願番号）：特開2003-277041
出願日： 2002年03月19日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】高密度かつ透光性に優れたシリカ薄膜を任意の形状と表面特性を有する基体上に製造する方法、該シリカ薄膜の表面粗さを制御する方法等を提供する。【解決手段】基体表面に接合したシリカ薄膜の製造方法であって、(1)シリコンアルコキシド、アルコール、水及びアルカリからなる溶液に基体を浸漬する、(2)アルコール溶媒中でのシリコンアルコキシドの加水分解により液中に直径1〜30nmの低密度ケイ酸コロイドを生ぜしめる、(3)これらの基体への付着と脱水重縮合により液中で基体上に均一な所定の膜厚のシリカ薄膜を形成する、(4)上記膜形成過程で反応液を動的な状態に保持する、ことを特徴とするシリカ薄膜の製造方法、及び該方法で作製したシリカ薄膜を表層に有する、高透光性複合構造体。

請求項（抜粋）：

基体表面に接合したシリカ薄膜の製造方法であって、(1)シリコンアルコキシド、アルコール、水及びアルカリからなる溶液に基体を浸漬する、(2)アルコール溶媒中でのシリコンアルコキシドの加水分解により液中に直径1〜30nmの低密度ケイ酸コロイドを生ぜしめる、(3)これらの基体への付着と脱水重縮合により液中で基体上に均一な所定の膜厚のシリカ薄膜を形成する、(4)上記膜形成過程で反応液を動的な状態に保持する、ことを特徴とするシリカ薄膜の製造方法。

IPC (4件)：

C01B 33/12 , H01L 21/316 , B29C 41/14 , C03C 17/25

FI (4件)：

C01B 33/12 C , H01L 21/316 G , B29C 41/14 , C03C 17/25 A

Fターム (33件)：

4F205AA33 , 4F205GA08 , 4F205GB11 , 4F205GE24 , 4F205GF01 , 4F205GF02 , 4F205GF05 , 4G059AA08 , 4G059AC04 , 4G059AC16 , 4G059AC20 , 4G059AC24 , 4G059EA05 , 4G059EB07 , 4G072AA26 , 4G072AA28 , 4G072BB09 , 4G072FF07 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072JJ11 , 4G072JJ21 , 4G072JJ38 , 4G072MM01 , 4G072MM31 , 4G072MM35 , 4G072UU30 , 5F058BA20 , 5F058BC02 , 5F058BF46 , 5F058BG10 , 5F058BH01 , 5F058BJ01

引用特許：

審査官引用 (7件)

二酸化ケイ素被膜の製造方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-274911 出願人：株式会社荏原製作所
シリカエアロゲル薄膜の製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-319857 出願人：松下電工株式会社
シリカ薄膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-113607 出願人：東ソー株式会社

全件表示

引用文献：

審査官引用 (1件)

溶液に浸漬した基板上へのシリカ薄膜の作製

前のページに戻る