研究者
J-GLOBAL ID:200901089736935774   更新日: 2024年02月23日

木本 恒暢

キモト ツネノブ | Kimoto Tsunenobu
所属機関・部署:
職名: 教授
研究分野 (2件): 電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (3件): 半導体デバイス ,  半導体材料 ,  Semiconductor Material
競争的資金等の研究課題 (38件):
  • 2021 - 2026 ロバストエレクトロニクスを目指したSiC半導体の学理深化
  • 2021 - 2022 学理に基づく高品質SiC/酸化膜界面の形成とロバストデバイスへの展開
  • 2018 - 2021 半絶縁性SiCの物性・欠陥解明とイオン注入による相補型ロバストJFETの作製
  • 2009 - 2014 炭化珪素半導体の欠陥制御と超高耐圧ロバスト素子への応用
  • 2009 - 2009 超高耐圧ロバスト素子を目指した炭化珪素半導体の欠陥制御に関する研究
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論文 (609件):
  • Hajime Tanaka, Tsunenobu Kimoto, Nobuya Mori. Theoretical study on high-field carrier transport and impact ionization coefficients in 4H-SiC. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024. 173. 108126-108126
  • Masahiro Hara, Takeaki Kitawaki, Hajime Tanaka, Mitsuaki Kaneko, Tsunenobu Kimoto. Tunneling current through non-alloyed metal/heavily-doped SiC interfaces. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024. 171. 108023-108023
  • Ryoya Ishikawa, Hajime Tanaka, Mitsuaki Kaneko, Tsunenobu Kimoto. Origin of hole mobility anisotropy in 4H-SiC. Journal of Applied Physics. 2024. 135. 7
  • Kyota Mikami, Keita Tachiki, Mitsuaki Kaneko, Tsunenobu Kimoto. Insight Into Mobility Improvement by the Oxidation-Minimizing Process in SiC MOSFETs. IEEE Transactions on Electron Devices. 2024. 71. 1. 931-934
  • Mitsuaki Kaneko, Masashi Nakajima, Qimin Jin, Noriyuki Maeda, Tsunenobu Kimoto. 350°C Operation of SiC Complementary JFET Logic Gates. 2023 IEEE CPMT Symposium Japan (ICSJ). 2023
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MISC (160件):
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書籍 (16件):
  • 薄膜作製応用ハンドブック
    NTS 2020
  • Wide Bandgap Semiconductor Power Devices
    Woodhead Publishing 2018
  • Handbook of Crystal Growth, Volume 3B: Thin Films and Epitaxy, 2nd edition
    2014
  • Fundamentals of Silicon Carbide Technology
    John Wiley & Sons 2014
  • Silicon Carbide and Related Materials 2013
    Trans Tech Publications 2014
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講演・口頭発表等 (228件):
  • Progress and Future Challenges of SiC Power MOSFETs
    (5th IEEE Electron Devices Technology and Manufacturing Conference 2021 2021)
  • WISE Program: Innovation of Advanced Photonic and Electronic Devices
    (International Workshop on Education and Research for Future Electronics 2021)
  • Lateral spreads of Al and P atoms implanted into a high-purity semi-insulating SiC substrate
    (2020 International Conference on Solid State Devices and Materials 2020)
  • High electron mobility along the c-axis in 4H-SiC
    (2020 International Conference on Solid State Devices and Materials 2020)
  • Accurate Determination of Barrier Heights in Heavily-Doped SiC Schottky Barrier Diodes Fabricated with Various Metals
    (2020 International Conference on Solid State Devices and Materials 2020)
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Works (6件):
  • SiC結晶成長とデバイス応用
    2000 - 2004
  • SiC結晶成長技術
    1999 - 2004
  • Crystal Grouth of SiC
    1999 - 2001
  • Crystal Grouth of SiC and Device Applocations
    2001 -
  • ダイヤモンド半導体に関する研究
    1989 -
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学歴 (4件):
  • - 1988 京都大学 工学研究科 電気工学第二
  • - 1988 京都大学
  • - 1986 京都大学 工学部 電気工学第二
  • - 1986 京都大学
学位 (1件):
  • 工学博士 (京都大学)
経歴 (4件):
  • 1988 - 1990 アモルファスSiおよびダイヤモンド半導体の研究
  • 1988 - 1990 Research and Devclopmant of Amophon Si and Semiconducter Diamond
  • 1990 - - SiCの結晶成長とデバイス応用
  • 1990 - - Cuystal Grouth of SiC and Deuice Applocations
受賞 (23件):
  • 2020 - 山﨑貞一賞
  • 2020 - IEEE ISPSD 2020 Ohmi Best Paper Award
  • 2020 - 文部科学大臣表彰 科学技術賞(研究部門)
  • 2020 - 岩谷直治記念賞
  • 2017 - 科学研究費助成事業 審査員表彰
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所属学会 (7件):
ワイドギャップ半導体学会 ,  Materials Research Society ,  IEEE ,  電気学会 ,  電子情報通信学会 ,  日本結晶成長学会 ,  応用物理学会
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