研究者
J-GLOBAL ID:200901092349858720   更新日: 2024年03月07日

石川 靖彦

イシカワ ヤスヒコ | Ishikawa Yasuhiko
所属機関・部署:
職名: 教授
ホームページURL (1件): http://www.int.ee.tut.ac.jp/photon/
研究分野 (4件): 光工学、光量子科学 ,  電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学 ,  結晶工学
研究キーワード (5件): エピタキシャル成長 ,  光電子集積 ,  光デバイス ,  シリコン・ゲルマニウム ,  シリコンフォトニクス
競争的資金等の研究課題 (33件):
  • 2022 - 2025 高品質グラフェンとシリコンフォトニクスのヘテロ集積によるTHz-光融合
  • 2021 - 2024 Si上に選択エピタキシャル成長したGe層に対するウエハ面内バンドエンジニアリング
  • 2018 - 2021 表面プラズモン論理演算回路構成技術の創出
  • 2015 - 2020 光信号の低コスト受信モニタリングのための小型光位相同期回路の研究開発
  • 2016 - 2019 バルクシリコンを用いたシリコン・ゲルマニウムフォトニクスプラットフォームの形成
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論文 (206件):
  • Yasuhiko Ishikawa. Trench-filling heteroepitaxy of [100]-oriented germanium arrays on (001) silicon substrate. Japanese Journal of Applied Physics. 2024
  • Yasuhiko Ishikawa. Anti-relaxation of tensile lattice strain in Si-embedded Ge strip structure for photonic device applications. Japanese Journal of Applied Physics. 2024
  • Mohd Faiz Bin Amin, Jose A. Piedra-Lorenzana, Keisuke Yamane, Takeshi Hizawa, Tetsuya Nakai, Yasuhiko Ishikawa. High-quality Ge epitaxial film based on dislocation trapping mechanism in patterned Si substrate. Japanese Journal of Applied Physics. 2023
  • Junichi Fujikata, Masataka Noguchi, Riku Katamawari, Kyosuke Inaba, Hideki Ono, Daisuke Shimura, Yosuke Onawa, Hiroki Yaegashi, Yasuhiko Ishikawa. High-performance Ge/Si electro-absorption optical modulator up to 85°C and its highly efficient photodetector operation. Optics Express. 2023. 31. 6. 10732-10732
  • Kota Kato, Kazuki Motomura, Jose A. Piedra-Lorenzana, Mohd Faiz Bin Amin, Takeshi Hizawa, Tetsuya Nakai, Yasuhiko Ishikawa. Trench-Filling Epitaxy of Germanium on (001) Silicon Enhanced Using [100]-Oriented Patterns. Journal of Electronic Materials. 2023. 52. 8. 5066-5074
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MISC (253件):
  • 金子尚平, PIEDRA-LORENZANA Jose A., 藤方潤一, 石川靖彦. Ge細線構造を用いた導波路受光器の受光スペクトルと温度特性評価. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 70th
  • 佐藤真希斗, 西依輝, PIEDRA-LORENZANA Jose A., 飛沢健, 石川靖彦. バルクSi上への光集積に向けたSiGe/Ge層のエピタキシャル成長. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2023. 70th
  • 福島孝晃, LORENZANA Jose A. Piedra, 飛沢健, 石川靖彦. シリコンフォトニクス用AlN膜の低温反応性スパッタリング. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 83rd
  • AMIN Mohd Faiz Bin, PIEDRA-LORENZANA Jose A., HIZAWA Takeshi, NAKAI Tetsuya, ISHIKAWA Yasuhiko. Siパターン基板上へのGeエピタキシャル層のCVD成長. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
  • 葛谷樹矢, 飛沢健, 石川靖彦. Si-on-quartzウエハ上ひずみGe層の近赤外吸収特性. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2022. 69th
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特許 (44件):
書籍 (5件):
  • 次世代高速通信に対応する光回路実装、デバイスの開発
    技術情報協会 2022
  • Photonics and Electronics with Germanium
    Wiley-VCH, Weinheim 2015
  • Silicon Photonics II (Topics in Applied Physics)
    Springer Verlag 2010
  • Optical Interconnects - The Silicon Approach
    Springer Verlag 2006
  • Silicon Nanoelectronics,
    Tayler & Francis 2005
講演・口頭発表等 (392件):
  • 光導波路応用に向けたバルクSi上SiGe層のCVD成長
    (2023)
  • Siフォトニクス応用に向けたTEOS-SiOx膜のPECVDによる堆積
    (2023)
  • Si上Ge細線構造を用いた横型p-i-n受光器におけるLおよびU帯での受光感度向上
    (Photonic Device Workshop 2023 (PDW2023) 2023)
  • 引張格子ひずみを増強したGe層を用いたSi上フリースペースpin受光器の暗電流評価
    (2023)
  • UHV-CVDによるV溝パターンSi基板上へのGeエピタキシャル成長
    (第10回 応用物理学会名古屋大学スチューデントチャプター東海地区学術講演会 2023)
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学歴 (1件):
  • - 1998 北海道大学
学位 (1件):
  • 博士(工学) (北海道大学)
委員歴 (38件):
  • 2023/04 - 現在 半導体の結晶成長と加工および評価に関する応物産学連携委員会 委員
  • 2019/06 - 現在 電子情報通信学会光集積及びシリコンフォトニクス特別研究専門委員会 委員
  • 2012 - 現在 電子材料シンポジウム プログラム委員
  • 2023/04 - 2025/03 応用物理学会東海支部 幹事
  • 2021/04 - 2023/03 応用物理学会東海支部 支部長補佐
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所属学会 (5件):
The Electrochemical Society ,  SPIE ,  IEEE ,  応用物理学会 ,  米国材料学会
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