研究者
J-GLOBAL ID：200901093428883329   更新日: 2023年01月16日

大西 桂子

オオニシ ケイコ | Onishi Keiko
所属機関・部署：
独立行政法人物質・材料研究機構 先端材料解析研究拠点表界面物理計測グループ

独立行政法人物質・材料研究機構 先端材料解析研究拠点表界面物理計測グループ について


職名： 主任研究員
研究分野 (3件)： 薄膜、表面界面物性 ,  ナノバイオサイエンス ,  ナノ材料科学
研究キーワード (3件)： 標準化 ,  ヘリウムイオン顕微鏡 ,  AFM
競争的資金等の研究課題 (2件)：
  • 2006 - AFM像の探針効果除去
  • 2003 - AFM image restoration
MISC (2件)：
  • Growth of InSb microcrystals on a Te-terminated InSb Substrate by Droplet Epitaxy ・・・
  • Growth of InSb microcrystals on a Te-terminated InSb Substrate by Droplet
学歴 (1件)：
  • - 1990 東京理科大学 理工学部 工業化学科
所属学会 (3件)：
日本表面真空学会 ,  応用物理学会 ,  The Japan Society of Applied Physics
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