研究者
J-GLOBAL ID：200901093715375334   更新日: 2022年09月28日

川畑 敬志

カワバタ ケイシ | Kawabata Keishi
所属機関・部署：
広島工業大学 工学部 電子・光システム工学科

広島工業大学 工学部 電子・光システム工学科 について


職名： 教授
ホームページURL (1件)： http://ttl.cc.it-hiroshima.ac.jp
研究分野 (3件)： 無機材料、物性 ,  電子デバイス、電子機器 ,  電気電子材料工学
研究キーワード (6件)： 無機材料・物性 ,  電子デバイス・機器工学 ,  電子・電気材料工学 ,  Inorganic Material and Properties ,  Electron Devices and Machineries Engineering ,  Electronic and Electrical Materisl Engineering
競争的資金等の研究課題 (10件)：
  • X線光電子分光法による薄膜評価
  • スパッタリングによる薄膜形成技術
  • 多重磁極マグネトロンスパッタ装置の開発
  • 高融点金属のスパッタリングに関する研究
  • 薄膜形成技術に関する研究
全件表示
MISC (69件)：
もっと見る
特許 (3件)：
書籍 (9件)：
  • Effect of d.c. bias on the deposition rate using r.f.-d.c. coupled magnetron sputtering for SnNx thin films (共著)
    Proc. 5th. Int. Symposium on sputtering and processes 1999
  • XPS profilography through angle resolved spectra(共著)
    Abstracts of ELECTRONICA 1998
  • Textured surface analysis by x-ray photoelectron Spectroscopy(共著)
    Abstracts of ELECTRONICA 1998
  • 電子デバイス-物性からICまで-(共著)
    産業図書 1997
  • Stoichiometry control in r. f. -d. c. Coupled magnetron Sputtering of A(]G0131[)N<sub>x</sub>(共著)
    Proc. 5th. Int. Conf. on Electron Beam Technogies 1997
もっと見る
Works (6件)：
  • 多重磁極マグネトロンスパッタ装置の開発
    2001 -
  • Development of magnetron sputtering system with multipolar magnets
    2001 -
  • 透明導電膜の表面改質
    1992 - 1993
  • Surface Improvement of transparent conductive oxide films
    1992 - 1993
  • スパッタリング薄膜の評価
    1990 -
もっと見る
学歴 (2件)：
  • - 1967 広島工業大学 工学部 電子工学
  • - 1967 広島工業大学
学位 (1件)：
  • 博士(工学) (広島大学)
経歴 (10件)：
  • 1981 - 1991 広島工業大学 助教授
  • 1981 - 1991 広島工業大学
  • 1991 - - 広島工業大学 教授
  • 1991 - - Hiroshima Institute of Technology, Professor
  • 1971 - 1981 広島工業大学 講師
全件表示
委員歴 (2件)：
  • 2003 - 応用物理学会中国四国支部 幹事
  • 1998 - 電子情報通信学会中国支部 評議委員
所属学会 (6件)：
応用物理学会中国四国支部 ,  電子情報通信学会中国支部 ,  American Vacuum Society ,  米国電気電子学会(IEEE:THE INSTITUTE OF ELECTRICAL AND ELECTRONICS ENGINEERS,INC.) ,  電子情報通信学会 ,  応用物理学会
※　J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る

TOP

BOTTOM