若杉雄彦

ワカスギカツヒコ | Wakasugi Katsuhiko

所属機関・部署：
職名：大学院学生(博士課程)
ホームページURL (1件)： http://www.eecs.kumamoto-u.ac.jp/eecs/labs/device-lab/device-lab-j.html

研究分野 (3件)：電子デバイス、電子機器 , 電気電子材料工学 , 薄膜、表面界面物性

研究キーワード (17件)： LSI fabrication , optical lithography , maskless lithography , ULSI Design , Evaluation , Thin Film Production , Plasma Process , Thin Film , LSI製造 , 光リソグラフィー , マスクレスリソグラフィー , 回路設計 , 集積回路 , 評価 , 薄膜作製 , プラズマプロセス , 薄膜

競争的資金等の研究課題 (4件)：

QTAT(短工期)電子回路パターニング技術開発
サブ0.1um半導体プロセス用拡散防止膜の開発
Development of QTAT(Quick-Turn-Around-Time)Electronic Circuit Patterning System
Development of The Ultra-Thin Diffusion Barrier Layer for Sub 0.1um Semiconductor Processes

MISC (2件)：

K Wakasugi, M Tokunaga, T Sumita, H Kubota, M Nagata, Y Honda. Superconductivity of reactively sputtered TaN film for ULSI process. PHYSICA B. 1997. 239. 1-2. 29-31
ULSIプロセス用反応性スパッタによるTaN(窒化タンタル)薄膜の超伝導特性. 1997. 239. 1-2. 29-31

特許 (2件)：

揮発性半導体記憶装置及びデータ処理装置特開2000-123576
Volatile Semiconductor Memory Storage and Data-Processing Equipment

学歴 (4件)：

- 1997 熊本大学工学研究科電気情報工学
- 1997 熊本大学
- 1995 熊本大学工学部電気情報工学
- 1995 熊本大学

学位 (1件)：

修士(工学) (熊本大学)

経歴 (4件)：

1997 - 1999 株式会社日立超LSIシステムズ ULSI開発部 RAMマクロ開発グループ所属
1997 - 1999 Hitachi ULSI Systems Co., Ltd. ULSI Development Dep. RAM Macro-Cell Development
1999 - - 株式会社ロジック・リサーチ LSI設計エンジニア
1999 - - Logic Research Co., Ltd. LSI Design Engineer

所属学会 (4件)：

電子情報通信学会 , 応用物理学会 , Information and Communication Engineers , The Institute of Electronics

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