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J-GLOBAL ID:200902076514372045   整理番号:82A0426341

エピタキシャル層構造と階段l-h接合の界面における電荷キャリア濃度(厳密な式と近似式の表示と比較)

Electric charge carrier concentration at the interface of epitaxial layer structures and abrupt l-h junctions (presentation and comparison of exact and approximate formulae).
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資料名:
巻: 29  号: 11/12  ページ: 111-118  発行年: 1981年 
JST資料番号: B0114A  ISSN: 0001-4125  CODEN: BAPTA9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ポーランド (POL)  言語: 英語 (EN)
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タイプが同じでドーピングの程度の異なる二つの領域の界面での議...
シソーラス用語:
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準シソーラス用語:
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分類 (1件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体-半導体接触【’81~’92】 

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