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J-GLOBAL ID：200902076661741684   整理番号：89A0472537

Heイオン照射によるスパッタリング収量のフルエンスおよび温度の効果

Effects of fluence and temperature on sputtering yield by He-ion bombardment.
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TOMITA M

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(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

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MASUMORI K

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TAKAMI M

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AKATSUKA H

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NATE T

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(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

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MIYAGI S

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SAKISAKA M

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(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)

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資料名：
IPPJ-AM (Institute of Plasma Physics, Nagoya University)  (IPPJ-AM (Institute of Plasma Physics, Nagoya University))

IPPJ-AM (Institute of Plasma Physics, Nagoya University) について


号： 64  ページ： 68-81  発行年： 1989年05月 
JST資料番号： S0993A  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
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抄録/ポイント
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25keV HeイオンをMo,W,Nb,Zr,Vに照射して標...
シソーラス用語：
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スパッタリング

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