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J-GLOBAL ID:200902108488684245   整理番号:02A0466160

高温Si(111)基板へのArイオン照射過程のリアルタイムSTM観察 (II)

著者 (5件):
資料名:
巻: 49th  号:ページ: 642  発行年: 2002年03月27日 
JST資料番号: Y0054A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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半導体の放射線による構造と物性の変化 

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