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J-GLOBAL ID：200902117432637510   整理番号：96A0434145

O₂/Cl₂/CF₄混合ガスを用いたRuのドライエッチング

Dry Etching of Ruthenium with O2/Cl2/CF4 Gas Plasma.

著者 (5件)： 松下誠 (菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング) ,  芝野照夫 (三菱電機) ,  仲村恵右 (三菱電機) ,  大森達夫 (三菱電機) ,  小林清輝 (菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 43rd  号： 2  ページ： 630  発行年： 1996年03月 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

タイトルに関連する用語 (4件)： O2 ,  混合ガス ,  Ru ,  ドライエッチング