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J-GLOBAL ID：200902152888795878   整理番号：98A0989984

0.18-0.25μm世代先進マスク製作のためのAZ5206/CrとZEP7000/Crのプラスマ・エッチング

Plasma etch of AZ5206/Cr and ZEP7000/Cr for 0.18-0.25μm generation advanced mask fabrication.

著者 (7件)： TSAI W (Intel Corp., CA) ,  CHEN F (Intel Corp., CA) ,  KAMNA M (Intel Corp., CA) ,  CHEGWIDDEN S (Intel Corp., CA) ,  LABOVITZ S (Intel Corp., CA) ,  FARNSWORTH J (Intel Corp., CA) ,  DAO G (Intel Corp., CA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 3412  ページ： 149-162  発行年： 1998年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： 世代 ,  マスク ,  製作 ,  Cr ,  プラスマ ,  エッチング