DCマグネトロンスパッタリングによるATO薄膜の製造 I 蒸着特性

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J-GLOBAL ID：200902155413415280 整理番号：96A0714840

Preparation of ATO Thin Films by DC Magnetron Sputtering. (I). Deposition Characteristics.

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巻： 33 号： 4 ページ： 441-447 発行年： 1996年04月30日
JST資料番号： T0799A ISSN： 1229-7801 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：韓国 (KOR) 言語：韓国語 (KO)

透明電極材料に用いるSb添加SnO₂薄...

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非金属材料へのセラミック被覆 , 酸化物薄膜

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