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J-GLOBAL ID：200902168599435450   整理番号：96A0821192

正弦波掃引法によるアルミニウムアノード酸化皮膜へのニッケル電析 II. 掃引電位および酸化皮膜厚の影響

Sinusoidal Potential Scan-Based Nickel Electrodeposition on Anodized Aluminum. II. Influences of Scan Potential and Anodized Film Thickness.

著者 (2件)： 比嘉敏勝 (沖縄県工試) ,  山添のぼる (九大 大学院 総合理工学研究科)
資料名： 電気化学および工業物理化学  (Electrochemistry)
巻： 64  号： 9  ページ： 988-993  発行年： 1996年09月 
JST資料番号： G0072A  ISSN： 1344-3542  CODEN： EECTFA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 正弦波掃引で現われる3つの電流ピーク(I<sub>s</su...

シソーラス用語： アルミニウム ,...
準シソーラス用語： 陰極還元

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分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  化成処理  (WC08050J)

引用文献 (7件)：

• KELLER, F. J. Electrochem. Soc. 1953, 100, 411
• 永山政一. 金属表面技術. 1979, 30, 438
• 海老原健. 金属表面技術. 1979, 33, 156
• 佐藤敏彦. 第40回腐食防食討論会講演集. 1993, 615-618
• 比嘉敏勝. 日特公,平04-029755号. 1992

タイトルに関連する用語 (9件)： 正弦波 ,  掃引 ,  アルミニウム ,  アノード酸化皮膜 ,  ニッケル ,  電析 ,  電位 ,  酸化皮膜 ,  厚