文献

J-GLOBAL ID：200902173858771980   整理番号：99A0021892

シリコンウェーハ洗浄の最前線 2 新型IPAベーパー乾燥装置 300mmウェーハ対応の新乾燥技術

Forefront of silicon wafer cleaning 2. New-models of IPA vapor dryers. New drying techniques responsive to 300mm wafers.

著者 (2件)： 百々宏三 (金門コルツ) ,  渡辺和俊 (オメガセミコン電子)
資料名： クリーンテクノロジー  (Clean Technology)
巻： 8  号： 11  ページ： 56-59  発行年： 1998年11月 
JST資料番号： L1138A  ISSN： 0917-1819  CODEN： KTEKER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： データシートなど  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 従来のウエハ乾燥機をさらに高性能化した300mmウエハ対応I...

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,...

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0021892&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L1138A") }}

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： イソプロパノール

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコンウェーハ ,  洗浄 ,  IPA ,  ベーパー ,  乾燥装置 ,  ウェーハ