文献
J-GLOBAL ID：200902174334655652
整理番号：98A0394905
微斜面上の膜の堆積に関する分子動力学研究 Ag/Si
A molecular dynamics study of film deposition on vicinal surfaces: Ag/Si.
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著者 (1件)：
資料名：
巻：
77
号：
4
ページ：
1011-1031
発行年：
1998年04月
JST資料番号：
H0004B
ISSN：
1364-2812
CODEN：
PMABDJ
資料種別：
逐次刊行物 (A)
記事区分：
原著論文
発行国：
イギリス (GBR)
言語：
英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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シソーラス用語：
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分類 (1件)：
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金属薄膜
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