極薄SiO<sub>2</sub>膜の容量換算膜厚(CET)の決定法

文献

J-GLOBAL ID：200902202563402800 整理番号：06A0267651

極薄SiO₂膜の容量換算膜厚(CET)の決定法

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資料名：
巻： 53rd 号： 2 ページ： 939 発行年： 2006年03月22日
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：短報発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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トランジスタ , 金属-絶縁体-半導体構造

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