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J-GLOBAL ID：200902235712838212   整理番号：09A1150441

「超」のめざす世界 超薄膜接着層を用いる接合技術の開発-分子接着剤-

著者 (5件)： 森克仁 (岩手大 大学院工学研究科) ,  松野祐亮 (岩手大 大学院工学研究科) ,  森邦夫 ,  平原英俊 (岩手大 大学院工学研究科) ,  成田榮一 (岩手大 大学院工学研究科)
資料名： Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan  (Journal of the Society of Inorganic Materials, Japan)
巻： 16  号： 343  ページ： 474-479  発行年： 2009年11月01日 
JST資料番号： F0275A  ISSN： 1345-3769  CODEN： JSIJFR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 分子接着理論及び固体表面への分子接着剤の導入として,エポキシ樹脂ポリイミドに対するシリコンゴムの架橋接着ならびにABS樹脂へのめっき技術について解説した。分子接着では表面へのヒドロキシル(OH)基の導入が大前提であり,高分子材料表面にはコロナ放電でOH基を導入する。互いに反応しない二種類の官能基を持つ分子接着剤TESのエタノール溶液にOH基化樹脂を浸漬し,加熱して結合させる。アルコキシリル基は加水分解後,OH基と脱水縮合して三次元網目構造を形成する。TESと結合したエポキシ樹脂やポリイミド樹脂と未架橋のシリコンゴムを圧着後熱処理した。剥離強度は3.1kNm^-1以上で,シリコン相が凝集破壊した。六価クロム酸で樹脂表面をエッチングすることなく,密着強度の高い銅めっき膜が得られた。

シソーラス用語： *接着剤 ,  超薄膜 ,  コロナ放電 ,  材料 ,  ポリイミド ,  エポキシ樹脂 ,  シリコーンゴム ,  架橋【高分子】 ,  ABS樹脂 ,  銅めっき ,  ネットワーク構造 ,  強度 ,  密着性 ,  Gibbs自由エネルギー ,  溶解度 ,  分子間力 ,  化学結合 ,  基 ,  ヒドロキシ基 ,  アルコキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  アルコキシル基 ,  *分子接着剤 ,  OH基 ,  *高分子材料 ,  架橋形成 ,  剥離強度 ,  官能基

分類 (1件)： 接着剤の性質・試験  (YK02000Q)

物質索引 (1件)： TES

引用文献 (18件)：

• 永田宏二. 接着剤と接着技術. 2007, 163
• 宮入裕夫. 先端接着接合技術. 2000, 16
• IKEGAMI, K. J. Adhesion. 1979, 10, 25-38
• 森邦夫. 日本接着学会誌. 2007, 43, 242-248
• HILDEBRAND, J. H. The Solubility of Nonelectrolyte, Reinhold. 1950, 45

タイトルに関連する用語 (5件)： 世界 ,  超薄膜 ,  接着層 ,  開発 ,  分子接着剤