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J-GLOBAL ID：200902259274861261   整理番号：07A0884056

Ge/Si(001)島状多層構造のDCXRD

DCXRD Investigation of a Ge/Si(001) Island Multilayer Structure

著者 (4件)： Shi Wenhua (State Key Lab. of Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors,Chinese Acad. of Sciences, Beijing) ,  Xue Chunlai (State Key Lab. of Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors,Chinese Acad. of Sciences, Beijing) ,  Luo Liping (State Key Lab. of Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors,Chinese Acad. of Sciences, Beijing) ,  Wang Qiming (State Key Lab. of Integrated Optoelectronics, Inst. of Semiconductors,Chinese Acad. of Sciences, Beijing)
資料名： Bandaoti Xuebao  (Bandaoti Xuebao)
巻： 28  号： 2  ページ： 145-148  発行年： 2007年 
JST資料番号： C2377A  ISSN： 0253-4177  CODEN： PTTPDZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ge/Si(001)島状多層構造を二重結晶X線回折,透過型電子顕微鏡,原子間力顕微鏡により調べた。ロッキングカーブの衛星ピークを湿潤層領域と島状構造領域に由来したLorentz型線形に当てはめた。次に,TEMから求めたSi層とGe(GeSi)層の厚みの比から,湿潤層と島状構造のGe組成を推定し,当てはめたピーク位置からそれぞれ0.51と0.67と推定した。本方法はGe/Si(001)島状多層構造を調べる比較的簡単な方法である。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *島状構造 ,  多層構造 ,  *X線回折 ,  透過型電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  ロッキングカーブ ,  Lorentz型線形 ,  ゲルマニウム ,  ケイ素 ,  *半導体

分類 (1件)： 半導体薄膜  (BK14040E)

タイトルに関連する用語 (4件)： Ge ,  Si ,  島 ,  多層構造