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J-GLOBAL ID：200902285685148273   整理番号：07A0847953

H₂O₂/NaOH/DMSO系におけるポリフェノールのラジカル消去速度と量子化学的解析

著者 (3件)： 竹内悠也 (静岡大 理 放射化学研究施設) ,  大矢恭久 (静岡大 理 放射化学研究施設) ,  奥野健二 (静岡大 理 放射化学研究施設)
資料名： 電子スピンサイエンス学会年会講演要旨集  (SEST)
巻： 45th  ページ： 230-231  発行年： 2006年11月14日 
JST資料番号： L0838B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 過酸化水素 ,...
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,...

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分類 (2件)： 芳香族単環フェノール類・多価フェノール  (CF05090V) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A)

物質索引 (7件)： DMSO ,  DMPO ,  没食子酸 ,  ピロガロール ,  カテコール ,  フロログルシノール ,  レソルシノール

タイトルに関連する用語 (7件)： H2O2 ,  NaOH ,  DMSO ,  ポリフェノール ,  ラジカル消去 ,  量子化学 ,  解析