(K,Na)NbO<sub>3</sub>圧電薄膜のCurie温度,二軸弾性係数,熱膨張係数

SHIBATA Kenji; SUENAGA Kazufumi; NOMOTO Akira; MISHIMA Tomoyoshi

文献

J-GLOBAL ID：201002205841744083 整理番号：10A0048888

(K,Na)NbO₃圧電薄膜のCurie温度,二軸弾性係数,熱膨張係数

Curie Temperature, Biaxial Elastic Modulus, and Thermal Expansion Coefficient of (K,Na)NbO₃ Piezoelectric Thin Films

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資料名：
巻： 48 号： 12 ページ： 121408.1-121408.5 発行年： 2009年12月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

Pt/Ti/SiO₂基板上の(K,Na)NbO₃(KNN)膜のCurie温度,二軸弾性係数,熱膨張係数のような基本パラメータを調べた。KNN膜の誘電率の温度依存性から,Curie温度は約360°Cであった。この値は膜の格子定数の臨界変化とこの温度付近で膜に誘起した応力からも確認された。光梃子法を用いて,KNN膜の二軸弾性係数と熱膨張係数がそれぞれ92GPaと8.0×10^-6(1/°C)であることが分かった。KNN膜の基本的性質は広く用いられているPb(Zr,Ti)O₃のものに似ており,KNN膜が微小電子機械システム(MEMS)応用のための無鉛圧電薄膜の潜在的候補であり得ることを示した。(翻訳著者抄録)

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強誘電体,反強誘電体,強弾性

引用文献 (23件)：

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(K,Na)NbO3圧電薄膜のCurie温度,二軸弾性係数,熱膨張係数

(K,Na)NbO₃圧電薄膜のCurie温度,二軸弾性係数,熱膨張係数