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J-GLOBAL ID:201002219217751220   整理番号:10A0595829

硬質セラミックス薄膜の膜厚,膜硬さ,および基材硬さと密着性の関係

著者 (3件):
資料名:
号: 39  ページ: 115-122  発行年: 2009年08月01日 
JST資料番号: X0305B  ISSN: 1884-4456  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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切削工具や金型の表面には,物理蒸着(PVD)法や化学蒸着(CVD)法によって高い密着性を有する硬質被膜を形成させている。この密着性は,中間層の種類,基材温度,コーティング条件,基材の表面状態の他に,膜厚,膜硬さ,膜の種類,基材の硬さにも影響を受ける。ここでは,膜厚,膜種(膜硬さ)および基材種類(基材硬さ)が被膜の密着性に及ぼす影響をスクラッチ試験によって調べた。この結果,密着性低下の要因として膜厚の増大,基材硬さの低下,膜硬さの増大が挙げられる。
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