文献
J-GLOBAL ID:201002299670603545   整理番号:10A1126404

新規の端部終端化の概念:接合終端化(RJT)

A concept of a novel edge termination technique: Junction Termination (RJT)
著者 (6件):
資料名:
巻: 22nd  ページ: 93-96  発行年: 2010年 
JST資料番号: W1300A  ISSN: 1943-653X  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
平坦化SiO2膜を充填したシリコン埋込みとp型RESURF(表面電界低減)(p-RESURF)層からなる,電力素子用新接合終端化方法を提案した。埋込み接合終端化(RJT)と名付けた,この新終端化方法は,高性能トランジスタの作製に必要である,低温プロセスと平坦化プロセスを用いた。電界のピークを低減する,正斜角形成のために配置したシリコン埋込みにより,新接合終端化はプレーナ接合の破壊電圧を改善した。RJTは,シリコン埋込みにより,RESURF層の熱抵抗バジェットを低減することができ,化学機械研磨(CMP)処理を用いた平坦化プロセスにより,ファインピッチプロセスと適合した。最初の段階で,電圧定格が75Vから1700Vの範囲である,pn RJTダイオードを作製し,各電圧定格用に充分な素子能力を得ることに成功した。さらに,漏洩電流は許容可能範囲であった。第2段階で,RJTダイオードの動的特性と安全動作領域(SOA)特性について調べた。また,RJT構造を用いた,先端キャリア保持トレンチ型バイポーラトランジスタ(CSTBTTM)と陰極電界緩和(RFC)型ダイオードを作製した。2,3年内にRJT構造が広範囲の電力素子に応用されると予想した。
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
ダイオード 
タイトルに関連する用語 (2件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る