文献

J-GLOBAL ID：201202258301453757   整理番号：12A1429730

自由形式照明による照明ピューピルグラム(pupilgram)制御法の適用

Application of illumination pupilgram control method with freeform illmination

著者 (4件)： MATSUYAMA Tomoyuki (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  KITA Naonori (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  MATSUI Ryota (Nikon Corp., Saitama, JPN) ,  IKEDA Junji (Nikon Corp., Saitama, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8326  号： Pt.1  ページ： 83260K.1-83260K.10  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ソースマスク最適化(SMO)でArF液浸リソグラフィの解像度は高まったが,k1が小さくなると照明形状誤差やレンズ収差に敏感になる。その結果,実際のソース形状は光学近接効果(OPE)曲線で調整しなければならない。本稿は,最適画像性能を得るための,照明パラメータを制御する照明ピューピルグラム再調整法を記す。ピューピルグラム変調はZernike多項式で表わされ,インテリジェント照明(自由形式照明)に高度のピューピルグラム自由度を与えている。Zernike変調各項の線形効果によって画像性能計算にZernike線形結合が使えるので,多くの照明変調項の最適化は適切な計算機負荷で可能である。本方法をレジストモデルとOPEマスタと称する最適化アルゴリズムを含む画像シミュレータと結合させた。ソフトウエアはスキャナーシグネチャと様々な制約を考慮しているので,最適化の結果はスキャナー上で正確に実現できる。

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  リソグラフィー ,  フォトマスク ,  *フォトリソグラフィー ,  分解能 ,  収差 ,  近接効果 ,  Zernike多項式 ,  走査装置 ,  アルゴリズム ,  照明設備 ,  瞳孔 ,  *最適化
準シソーラス用語： スキャナ ,  液浸リソグラフィー ,  解像度 ,  最適化アルゴリズム ,  照明システム ,  瞳 ,  *露光装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 照明 ,  制御法