(Ti0.95Mo0.05)(C0.5N0.5),(Ti0.9Nb0.1)(C0.5N0.5)および(Ti0.85Nb0.1Mo0.05)(C0.5N0.5)基板上のNiの濡れ挙動

HOSOKAWA Hiroyuki; SHIMOJIMA Koji; MATSUMOTO Akihiro; KATO Kiyotaka; MATSUDA Tetsushi; MATSUBARA Hideaki

文献

J-GLOBAL ID：201302242009610772 整理番号：13A0786515

(Ti_0.95Mo_0.05)(C_0.5N_0.5),(Ti_0.9Nb_0.1)(C_0.5N_0.5)および(Ti_0.85Nb_0.1Mo_0.05)(C_0.5N_0.5)基板上のNiの濡れ挙動

Wetting Behavior for Ni on (Ti_0.95Mo_0.05)(C_0.5N_0.5), (Ti_0.9Nb_0.1)(C_0.5N_0.5) and (Ti_0.85Nb_0.1Mo_0.05)(C_0.5N_0.5) Substrates

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著者 (6件)： , , , , ,
資料名：
巻： 54 号： 3 ページ： 367-370 (J-STAGE) 発行年： 2013年
JST資料番号： G0668A ISSN： 1345-9678 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

(Ti_0.95Mo_0.05)(C_0.5N_0.5),(Ti_0.9Nb_0.1)(C_0.5N_0.5)および(Ti_0.85Nb_0.1Mo_0.05)(C_0.5N_0.5)セラミックス上のNiの濡れ試験を1823Kで行い,以前のデータと比較した。Mo量が増えると,接触角がより小さくなった。(Ti_0.85Nb_0.1Mo_0.05)(C_0.5N_0.5)の接触角は,(Ti_0.95Mo_0.05)(C_0.5N_0.5)のものより小さかった。濡れ試験したサンプルの断面には新しい相を観察せず,ミクロ組織を3つの領域に分けることができた。すなわち,Niリッチ領域,活性領域および基板領域である。Nbを含むチタン炭窒化物の活性領域の深さ/Niリッチ領域の高さ比は,Moを含むそれらのものより大きく,(Ti_0.85Nb_0.1Mo_0.05)(C_0.5N_0.5)の比はすべてのサンプルにおいて最大であった。(翻訳著者抄録)

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固-液界面 , セラミック・磁器の性質

引用文献 (18件)：

1) M. Humenik, Jr. and N. M. Parikh: J. Am. Ceram. Soc. 39 (1956) 60–63.
2) N. M. Parikh and M. Humenik, Jr.: J. Am. Ceram. Soc. 40 (1957) 315–320.
3) N. M. Parikh: J. Am. Ceram. Soc. 40 (1957) 335–339.
4) D. Mari, S. Bolognini, G. Feusier, T. Cutard, C. Verdon, T. Viatte and W. Benoit: Int. J. Refract. Met. Hard Mater. 21 (2003) 37–46.
5) D. Mari, S. Bolognini, G. Feusier, T. Cutard, T. Viatte and W. Benoit: Int. J. Refract. Met. Hard Mater. 21 (2003) 47–53.

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