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J-GLOBAL ID：201402248903562033   整理番号：14A1224908

BEOL/MOLとFEOL不均一絶縁破壊のための時間依存クラスタリングモデル対組み合わせベース手法:類似と不同

Time-Dependent Clustering Model versus Combination-Based Approach for BEOL/MOL and FEOL Non-Uniform Dielectric Breakdown:Similarities and Disparities

著者 (4件)： WU Ernest Y. (US.IBM.COM) ,  LI Baozhen (IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, VT, USA) ,  STATHIS James H. (IBM Res. Div., New York, USA) ,  LAROW Charles (IBM Semiconductor Res. and Dev. Center, VT, USA)
資料名： Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium  (Annual Proceedings. IEEE International Reliability Physics Symposium)
巻： 2014 Vol.1  ページ： 437-443  発行年： 2014年 
JST資料番号： A0631A  ISSN： 1541-7026  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *絶縁破壊 ,  信頼性 ,  クラスタ化 ,  組合せ ,  半導体プロセス ,  絶縁膜 ,  誘電体薄膜 ,  比較 ,  ゲート絶縁膜
準シソーラス用語： *BEOL ,  *FEOL ,  TDDB ,  クラスタリング ,  ゲート誘電体 ,  *モデル比較

分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (11件)： BEOL ,  MoL ,  FEOL ,  不均一 ,  絶縁破壊 ,  時間依存 ,  クラスタリング ,  モデル ,  組み合わせ ,  手法 ,  類似