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J-GLOBAL ID：201502211447267307   整理番号：15A0818830

PCB HA SLにおけるNaHSO_3/Na_2SO_3溶液の電気化学的腐食挙動【Powered by NICT】

ELECTROCHEMICAL CORROSION BEHAVIOR OF PCB-HASL IN NaHSO_3/Na_2SO_3 SOLUTION

著者 (6件)： Ding Kangkang (Corrosion and Protection Center, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing) ,  Xiao Kui (Corrosion and Protection Center, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing) ,  Zou Shiwen (Corrosion and Protection Center, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing) ,  Dong Chaofang (Corrosion and Protection Center, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing) ,  Zhao Ruitao (Corrosion and Protection Center, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing) ,  Li Xiaogang (Corrosion and Protection Center, Univ. of Sci. and Technol. Beijing, Beijing)
資料名： Jinshu Xuebao  (Jinshu Xuebao)
巻： 50  号： 10  ページ： 1269-1278  発行年： 2014年 
JST資料番号： B0626A  ISSN： 0412-1961  CODEN： CHSPA4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 電子技術の革新,統合と小型化はプリント回路基板(PCB)の将来の発展方向となっている。一方,PCBの腐食問題もより明確に卓越しており,微量腐食生成物がPCBの信頼性に重大な影響を与えるであろう。実態では,硫黄含有産業環境のような,PCB自身の温度場ゆらぎをまたは日周温度変動による,凝縮現象が起こる可能性がある。さらに,粒状堆積または過飽和湿度の水分吸収効果の結果として,電解質溶液の層がPCBの表面に形成され,電気化学的腐食を引き起こすであろう。本研究では,電気化学インピーダンス分光法(EIS)及び走査Kelvinプローブ(SKP)法を,異なるpH値をもつシミュレートした電解質0.1mol/L NaHSO_3と0.1mol/L NaHSO_3/Na_2SO_3溶液中の熱風はんだレベリングプリント回路基板(PCB-HASL)の腐食挙動と機構を研究するために使用し,腐食機構の変化に及ぼす浸漬時間とpH値の影響を議論した。一方,EDSと組み合わせたOM,SEMを使用して,PCB-HA SLの表面上の腐食生成物の核形成及び成長過程を観察し解析した。SEMとEDSの結果は,酸シミュレーション溶液中のPCB HA SLの腐食挙動は孔食に類似しており,腐食ピットは初期浸漬段階で加速膨張の状態であることを示した。腐食生成物は主にSnの酸化物と硫酸塩から成っていた。EIS及びSKP分析はPCB HA SL表面はNaHSO_3溶液により活性化されることができ,孔食核形成過程は初期浸漬段階でのみ生じたことを示した。NaHSO_3/Na_2SO_3の中性またはアルカリ性溶液系では,孔食が発生しないこと,そして,酸化物膜を介して電極界面への電解質の透過は,腐食反応の制御段階であった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 信頼性 ,  pH【水素イオン指数】 ,  核形成 ,  *ポリ塩化ビフェニル ,  電解質 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  酸化物 ,  *腐食 ,  走査電子顕微鏡 ,  孔食 ,  酸化膜 ,  腐食生成物 ,  腐食機構 ,  浸漬
準シソーラス用語： *腐食挙動 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 腐食  (WB03030B)

タイトルに関連する用語 (6件)： PCB ,  HA ,  SL ,  溶液 ,  電気化学的腐食 ,  挙動