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J-GLOBAL ID:201602223833549121   整理番号:16A1241068

低温での原子層蒸着した透明aluminumdoped亜鉛酸化物薄膜の特性【Powered by NICT】

Characteristics of atomic layer deposited transparent aluminumdoped zinc oxide thin films at low temperature
著者 (7件):
資料名:
巻: 35  号:ページ: 509-512  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2573A  ISSN: 1001-0521  CODEN: RARME8  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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100°Cで原子層堆積(A LD)によりSi基板上に作製した種々のアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)膜。それらの電気的,光学的特性,構造特性と表面トポグラフィー上のAZO膜の組成の影響を調べた。電気抵抗率の出現は,その半導体特性を示した。可視光バンドの大部分で,全てのAZO膜は80%以上の透明性を示した。Alドーピングは,AZO膜の結晶化を抑制した。Alドーピング濃度が3.95at%まで増加すると,AZO膜はランダム配向を持つある種の小さい多結晶粒を持っていた。Alドーピングは,i-ZnO膜の粗さを改善する。A LDで調製した試料の二乗平均平方根(RMS)粗さが報告されている高周波マグネトロンスパッタリングにより調製したものよりはるかに小さかった。Data from the ScienceChina, LCAS.【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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酸化物薄膜 
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