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J-GLOBAL ID:201602261643529775   整理番号:16A1044992

エッチング転移マスキング膜用単分散SIO_2ナノ球によって調製した。【JST・京大機械翻訳】

Preparation of monodispersed spherical silicon dioxide particles used as pattern transfer etching mask
著者 (5件):
資料名:
巻: 47  号:ページ: 5212-5216  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2095A  ISSN: 1001-9731  CODEN: GOCAEA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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無水エタノール中で触媒としてアンモニアを用いて,オルトケイ酸テトラエチル,シリカ源,伝統的なゾル-ゲルプロセスの単分散SIO_2球状粒子であった。研究を行った走査電子顕微鏡(SEM)により各種反応条件、SIO_2球粒子のサイズとモルホロジーに及ぼすアンモニアと水の濃度と加水分解温度などの影響をテトラエトキシシラン(TEOS)または結果は,示した,オルトケイ酸テトラエチルアンモニア濃度の増加によりSIO_2球の粒径が増大する;脱イオン水量の増加によってSIO_2球の直径は小さくなる;凝集現象は,有意に減少した;温度は増加した。熟成時間の影響を凝集が,凝集現象は可逆変化である。異なる反応条件下でのSIO_2球粒子の形成機構を議論し,ためにSIO_2ナノ球の表面エネルギーおよび高安定性の差は、使用中凝集現象の原因と解決方法を発生しやすい。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
著者キーワード (4件):
分類 (4件):
分類
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高分子と低分子との反応  ,  セラミック・陶磁器の製造  ,  コロイド化学一般  ,  吸着剤 
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